终端控制的 Sion™ 射频检测器

Sion™ 射频检测器可以可靠、准确地确定腔室清洗终点,从而为您的气相沉积 (CVD) 和蚀刻过程提供更严密的控制及更高的产量。更精确的终点意味着晶圆上残留的粒子更少,延长预防性维护周期。

与基于发射光谱仪 (OES) 的控制器相比,Sion 具有诸多优势,可与 FabGuard® 集成与分析系统结合使用,减少因蚀刻不足或蚀刻过度导致需要清洗腔室而浪费的时间和材料。

功能

  • 轻松方便地替换基于 OES 的仪器,实现更精确的终点控制
  • 消除因蚀刻不足或蚀刻过度导致的腔室清洗,降低时间和材料成本
  • 降低所需干净气流级别和成本
  • 无需执行腔室窗口维护和更换,延长了工具运行时间
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