薄膜沉积和电子枪控制装置

INFICON 市场领先的薄膜沉积控制器、监控器和 QCM 测量仪器凭借无与伦比的测量速度和精度,可控制最复杂过程的沉积速率和厚度。利用增强型软件和逻辑 I/O 的强大功能, 可将我们的薄膜沉积控制器/QCM 测量仪器完全集成到真空系统,实现自动过程控制。在控制复杂度较低的过程时,使用 INFICON 经济实惠的精密控制器、监控器和 QCM 测量仪器测量薄膜,测量精度比传统技术高出 100 倍。

典型的 QCM 系统包括:石英晶体(传感设备);晶体支架(传感器),用于固定晶体并提供与晶体的电气连接;振荡器(或用于 ModeLock 设备的 XIU),用于驱动晶体;以及控制器或监控器,用于读取沉积速率和厚度并存储过程参数。INFICON 提供完整的 QCM 系统和为各种研究应用而设计的单独元件。

在最简单到最复杂的过程中,INFICON 都能创造最出众的价值。

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沉积控制器

通过沉积控制器,可利用 QCM 传感器对沉积过程实现速率控制。 INFICON 可按您的要求为您提供具有从最基本到最齐全功能的任何沉积控制器。

EIES 可在某些 QCM 并非理想选择的应用中作为备选速率/厚度监测技术。

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沉积监控器

沉积监控器与沉积控制器相似,但是在无需速率控制或复杂系统集成的应用中使用更加简便。 INFICON 沉积监控器可通过简便易用的方式为您提供 INFICON 值得信赖且领先业界的质量。

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电子枪控制装置

INFICON 作为 QCM 技术的全球领先者,现在提供电子枪控制设备,包括扫频控制器、坩埚指数仪、源控制器和高压电源。

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石英晶体传感器和馈入件

传感器容纳和冷却石英晶体,并构成晶体与馈入件之间的电气连接。 INFICON 传感器具有各种配置,并可采用传感器/馈入件组合的形式用作完整定制解决方案!

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用于真空应用的石英监控器晶体

石英晶体是 QCM 系统中的速率和厚度传感元件。这些晶体用于所有标准 INFICON 监控器或控制器以及 INFICON(或其他制造商的)单、双或多晶体传感器的真空应用。  

INFICON 推出各种晶体和包装,可随时为您提供所需的晶体。

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用于液体应用的石英监控器晶体

标准 AT 切割的 1 in. (25.4 mm) 直径晶体主要用于 INFICON RQCM(石英晶体微天平研究系统) 和 PLO-10i 系统的研究应用。 这些研究晶体设计用在 INFICON 牢固且使用方便的晶体支架上, 对沉积薄膜或液体进行现场监控。

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已停产薄膜产品的手册

从 INFICON、Sigma Instruments、Sycon Instruments 和 Maxtek 下载已停产产品的手册。

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